Depozice polysiloxanových vrstev v nízkoteplotním plazmatu

DSpace Repository

Login

Language: English čeština 

Depozice polysiloxanových vrstev v nízkoteplotním plazmatu

Show full item record

No preview available
Title: Depozice polysiloxanových vrstev v nízkoteplotním plazmatu
Author: Šuranský, Martin
Advisor: Grulich, Ondřej
Abstract: Jednou z často využívaných aplikací plazmatu je depozice tenkých vrstev na polymerní substráty. Tenké vrstvy mohou modifikovat povrchové vlastnosti substrátu. Polysiloxany jsou polymery na bázi křemíku odolné teplotě, UV záření a oxidaci. Nastavení správných depozičních podmínek (typ reaktoru a jeho geometrická konfigurace, frekvence výboje, výkon, průtok monomeru, tlak, teplota substrátu, velikost a pozice substrátu v reaktoru) je klíčové pro dosažení správných očekávaných vlastnosti povlaku a také jejich reprodukovatelnosti v průmyslovém měřítku. Polysiloxanové vrstvy mohou fungovat kupříkladu jako ochranné vrstvy proti poškrábání, bariérové, izolační a optické vrstvy (i gradientní, nebo vrstvy upravující hydrofilitu substrátu. Tato práce se zabývá nastavením vhodných depozičních parametrů k nanesení polysiloxanové vrstvy na polystyrenový substrát v daných podmínkách (RF kapacitně buzený plazmatický reaktor).
URI: http://hdl.handle.net/10563/30323
Date: 2014-01-10
Availability: Bez omezení
Department: Ústav inženýrství polymerů
Discipline: Inženýrství polymerů
Grade for thesis and defense: A


Citace závěřečné práce

Files in this item

Files Size Format View
šuranský_2014_dp.pdf 3.192Mb PDF View/Open
šuranský_2014_vp.doc 95.5Kb Microsoft Word View/Open
šuranský_2014_op.doc 96.5Kb Microsoft Word View/Open

This item appears in the following Collection(s)

Show full item record

Find fulltext

Search DSpace


Browse

My Account