Depozice polysiloxanových vrstev v nízkoteplotním plazmatu

DSpace Repository

Login

Language: English čeština 

Depozice polysiloxanových vrstev v nízkoteplotním plazmatu

Show simple item record

dc.contributor.advisor Grulich, Ondřej
dc.contributor.author Šuranský, Martin
dc.date.accessioned 2015-03-08T21:17:38Z
dc.date.available 2015-03-08T21:17:38Z
dc.date.issued 2014-01-10
dc.identifier Elektronický archiv Knihovny UTB
dc.identifier.uri http://hdl.handle.net/10563/30323
dc.description.abstract Jednou z často využívaných aplikací plazmatu je depozice tenkých vrstev na polymerní substráty. Tenké vrstvy mohou modifikovat povrchové vlastnosti substrátu. Polysiloxany jsou polymery na bázi křemíku odolné teplotě, UV záření a oxidaci. Nastavení správných depozičních podmínek (typ reaktoru a jeho geometrická konfigurace, frekvence výboje, výkon, průtok monomeru, tlak, teplota substrátu, velikost a pozice substrátu v reaktoru) je klíčové pro dosažení správných očekávaných vlastnosti povlaku a také jejich reprodukovatelnosti v průmyslovém měřítku. Polysiloxanové vrstvy mohou fungovat kupříkladu jako ochranné vrstvy proti poškrábání, bariérové, izolační a optické vrstvy (i gradientní, nebo vrstvy upravující hydrofilitu substrátu. Tato práce se zabývá nastavením vhodných depozičních parametrů k nanesení polysiloxanové vrstvy na polystyrenový substrát v daných podmínkách (RF kapacitně buzený plazmatický reaktor).
dc.format 94 s. (112 572 znaků)
dc.language.iso cs
dc.publisher Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně
dc.rights Bez omezení
dc.subject plazmatické technologie cs
dc.subject plazmatické povlaky cs
dc.subject tenké vrstvy cs
dc.subject polysiloxanové vrstvy cs
dc.subject organokřemičité povlaky cs
dc.subject Plasma Technology en
dc.subject Plasma Coating en
dc.subject Thin Layers en
dc.subject Polysiloxane Layers en
dc.subject Organosilicon Coating en
dc.title Depozice polysiloxanových vrstev v nízkoteplotním plazmatu
dc.title.alternative Deposition of Polysiloxane Layers in Low-temperature Plasma
dc.type diplomová práce cs
dc.contributor.referee Smolka, Petr
dc.date.accepted 2014-06-05
dc.description.abstract-translated One of the broadly used aplications of plasma technologies is thin film deposition on polymer substrates. Thin films can modify surface properties of substrate material. Polysiloxanes are polymers based on silicon and are resistant to heat, UV radiation and oxygen degradation. The key point for reaching coherent coatings with expected properties and their reproducibility in industrial applications is to set up correct deposition parameters e.g. type and configuration of plasma reactor, discharge frequency, power, flow rate of precursor, pressure, temperature of substrate, dimensions and position of substrate in plasma chamber. Polysiloxane layers can be used as scratch resistant, barrier or insulation coatings (also as so called gradient layers) or coatings modyfying hydrophilic properties of original material. This work is focused on finding optimal deposition parameters for creating polysiloxane layer on polystyrene substrate at given conditions (RF capacitively coupled plasma generator).
dc.description.department Ústav inženýrství polymerů
dc.thesis.degree-discipline Inženýrství polymerů cs
dc.thesis.degree-discipline Polymer Engineering en
dc.thesis.degree-grantor Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně. Fakulta technologická cs
dc.thesis.degree-grantor Tomas Bata University in Zlín. Faculty of Technology en
dc.thesis.degree-name Ing.
dc.thesis.degree-program Chemie a technologie materiálů cs
dc.thesis.degree-program Chemistry and Materials Technology en
dc.identifier.stag 36714
utb.result.grade A
dc.date.submitted 2014-05-13


Files in this item

Files Size Format View
šuranský_2014_dp.pdf 3.192Mb PDF View/Open
šuranský_2014_vp.doc 95.5Kb Microsoft Word View/Open
šuranský_2014_op.doc 96.5Kb Microsoft Word View/Open

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record

Find fulltext

Search DSpace


Browse

My Account