| dc.contributor.advisor |
Grulich, Ondřej
|
|
| dc.contributor.author |
Šuranský, Martin
|
|
| dc.date.accessioned |
2015-03-08T21:17:38Z |
|
| dc.date.available |
2015-03-08T21:17:38Z |
|
| dc.date.issued |
2014-01-10 |
|
| dc.identifier |
Elektronický archiv Knihovny UTB |
|
| dc.identifier.uri |
http://hdl.handle.net/10563/30323
|
|
| dc.description.abstract |
Jednou z často využívaných aplikací plazmatu je depozice tenkých vrstev na polymerní substráty. Tenké vrstvy mohou modifikovat povrchové vlastnosti substrátu. Polysiloxany jsou polymery na bázi křemíku odolné teplotě, UV záření a oxidaci. Nastavení správných depozičních podmínek (typ reaktoru a jeho geometrická konfigurace, frekvence výboje, výkon, průtok monomeru, tlak, teplota substrátu, velikost a pozice substrátu v reaktoru) je klíčové pro dosažení správných očekávaných vlastnosti povlaku a také jejich reprodukovatelnosti v průmyslovém měřítku. Polysiloxanové vrstvy mohou fungovat kupříkladu jako ochranné vrstvy proti poškrábání, bariérové, izolační a optické vrstvy (i gradientní, nebo vrstvy upravující hydrofilitu substrátu. Tato práce se zabývá nastavením vhodných depozičních parametrů k nanesení polysiloxanové vrstvy na polystyrenový substrát v daných podmínkách (RF kapacitně buzený plazmatický reaktor). |
|
| dc.format |
94 s. (112 572 znaků) |
|
| dc.language.iso |
cs |
|
| dc.publisher |
Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně |
|
| dc.rights |
Bez omezení |
|
| dc.subject |
plazmatické technologie
|
cs |
| dc.subject |
plazmatické povlaky
|
cs |
| dc.subject |
tenké vrstvy
|
cs |
| dc.subject |
polysiloxanové vrstvy
|
cs |
| dc.subject |
organokřemičité povlaky
|
cs |
| dc.subject |
Plasma Technology
|
en |
| dc.subject |
Plasma Coating
|
en |
| dc.subject |
Thin Layers
|
en |
| dc.subject |
Polysiloxane Layers
|
en |
| dc.subject |
Organosilicon Coating
|
en |
| dc.title |
Depozice polysiloxanových vrstev v nízkoteplotním plazmatu |
|
| dc.title.alternative |
Deposition of Polysiloxane Layers in Low-temperature Plasma |
|
| dc.type |
diplomová práce |
cs |
| dc.contributor.referee |
Smolka, Petr |
|
| dc.date.accepted |
2014-06-05 |
|
| dc.description.abstract-translated |
One of the broadly used aplications of plasma technologies is thin film deposition on polymer substrates. Thin films can modify surface properties of substrate material. Polysiloxanes are polymers based on silicon and are resistant to heat, UV radiation and oxygen degradation. The key point for reaching coherent coatings with expected properties and their reproducibility in industrial applications is to set up correct deposition parameters e.g. type and configuration of plasma reactor, discharge frequency, power, flow rate of precursor, pressure, temperature of substrate, dimensions and position of substrate in plasma chamber. Polysiloxane layers can be used as scratch resistant, barrier or insulation coatings (also as so called gradient layers) or coatings modyfying hydrophilic properties of original material. This work is focused on finding optimal deposition parameters for creating polysiloxane layer on polystyrene substrate at given conditions (RF capacitively coupled plasma generator). |
|
| dc.description.department |
Ústav inženýrství polymerů |
|
| dc.thesis.degree-discipline |
Inženýrství polymerů |
cs |
| dc.thesis.degree-discipline |
Polymer Engineering |
en |
| dc.thesis.degree-grantor |
Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně. Fakulta technologická |
cs |
| dc.thesis.degree-grantor |
Tomas Bata University in Zlín. Faculty of Technology |
en |
| dc.thesis.degree-name |
Ing. |
|
| dc.thesis.degree-program |
Chemie a technologie materiálů |
cs |
| dc.thesis.degree-program |
Chemistry and Materials Technology |
en |
| dc.identifier.stag |
36714
|
|
| utb.result.grade |
A |
|
| dc.date.submitted |
2014-05-13 |
|
