Příprava struktur přes masku z polymerního rezistu

Abstract

Tato bakalářská práce se zaměřuje na techniku přípravy struktur pomocí procesu lift-off. V teoretické části je vysvětlen princip fungování různých litografických technik a metod depozice cílového materiálu. Součástí praktické části je příprava polymerních masek pomocí elektronové litografie na křemíkovém substrátu a polyimidové fólii. Na základě měření tloušťky vrstev mechanickým profilometrem byly pro přípravu polymerní masky zvoleny roztoky připravené z PMMA o vyšší a nižší molární hmotnosti. Přes masky byly na křemíkovém substrátu lift-off procesem vytvořeny vodivé struktury z vrstvy Ag. Charakterizace struktur byla provedena pomocí optické mikroskopie, mechanické profilometrie a skenovací elektronové mikroskopie. Při charakterizaci byl kladen důraz na porovnání velikostí výsledných rozměrů struktur.