Depozice polysiloxanových vrstev v nízkoteplotním plazmatu

Repozitář DSpace/Manakin

Přihlásit se

Jazyk: English čeština 

Depozice polysiloxanových vrstev v nízkoteplotním plazmatu

Zobrazit celý záznam

Není dostupný náhled
Název: Depozice polysiloxanových vrstev v nízkoteplotním plazmatu
Autor: Šuranský, Martin
Vedoucí: Grulich, Ondřej
Abstrakt: Jednou z často využívaných aplikací plazmatu je depozice tenkých vrstev na polymerní substráty. Tenké vrstvy mohou modifikovat povrchové vlastnosti substrátu. Polysiloxany jsou polymery na bázi křemíku odolné teplotě, UV záření a oxidaci. Nastavení správných depozičních podmínek (typ reaktoru a jeho geometrická konfigurace, frekvence výboje, výkon, průtok monomeru, tlak, teplota substrátu, velikost a pozice substrátu v reaktoru) je klíčové pro dosažení správných očekávaných vlastnosti povlaku a také jejich reprodukovatelnosti v průmyslovém měřítku. Polysiloxanové vrstvy mohou fungovat kupříkladu jako ochranné vrstvy proti poškrábání, bariérové, izolační a optické vrstvy (i gradientní, nebo vrstvy upravující hydrofilitu substrátu. Tato práce se zabývá nastavením vhodných depozičních parametrů k nanesení polysiloxanové vrstvy na polystyrenový substrát v daných podmínkách (RF kapacitně buzený plazmatický reaktor).
URI: http://hdl.handle.net/10563/30323
Datum: 2014-01-10
Dostupnost: Bez omezení
Ústav: Ústav inženýrství polymerů
Studijní obor: Inženýrství polymerů
Klasifikace závěřečné práce a její obhajoby: A 36714


Citace závěřečné práce

Soubory tohoto záznamu

Soubory Velikost Formát Zobrazit
šuranský_2014_dp.pdf 3.192Mb PDF Zobrazit/otevřít
šuranský_2014_vp.doc 95.5Kb Microsoft Word Zobrazit/otevřít
šuranský_2014_op.doc 96.5Kb Microsoft Word Zobrazit/otevřít

Tento záznam se objevuje v následujících kolekcích

Zobrazit celý záznam

Find fulltext

Prohledat DSpace


Procházet

Můj účet