Příprava struktur přes masku z polymerního rezistu

Dvořák, Zdeněk

Příprava struktur přes masku z polymerního rezistu

DSpace Repository

Language: English čeština

Příprava struktur přes masku z polymerního rezistu

dc.contributor.advisor	Urbánek, Michal
dc.contributor.author	Dvořák, Zdeněk
dc.date.accessioned	2024-07-23T13:16:04Z
dc.date.available	2024-07-23T13:16:04Z
dc.date.issued	2024-01-02
dc.identifier	Elektronický archiv Knihovny UTB
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/10563/55270
dc.description.abstract	Tato bakalářská práce se zaměřuje na techniku přípravy struktur pomocí procesu lift-off. V teoretické části je vysvětlen princip fungování různých litografických technik a metod depozice cílového materiálu. Součástí praktické části je příprava polymerních masek pomocí elektronové litografie na křemíkovém substrátu a polyimidové fólii. Na základě měření tloušťky vrstev mechanickým profilometrem byly pro přípravu polymerní masky zvoleny roztoky připravené z PMMA o vyšší a nižší molární hmotnosti. Přes masky byly na křemíkovém substrátu lift-off procesem vytvořeny vodivé struktury z vrstvy Ag. Charakterizace struktur byla provedena pomocí optické mikroskopie, mechanické profilometrie a skenovací elektronové mikroskopie. Při charakterizaci byl kladen důraz na porovnání velikostí výsledných rozměrů struktur.
dc.format	62
dc.language.iso	cs
dc.publisher	Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně
dc.rights	Bez omezení
dc.subject	litografické techniky	cs
dc.subject	elektronová litografie	cs
dc.subject	lift-off proces	cs
dc.subject	polymerní rezist	cs
dc.subject	lithographic techniques	en
dc.subject	electron-beam lithography	en
dc.subject	lift-off process	en
dc.subject	polymer resist	en
dc.title	Příprava struktur přes masku z polymerního rezistu
dc.title.alternative	Preparation of Structures Through a Polymer Resist Mask
dc.type	bakalářská práce	cs
dc.contributor.referee	Minařík, Antonín
dc.date.accepted	2024-06-12
dc.description.abstract-translated	This bachelor thesis focuses on the technique of preparing structures using the lift-off process. The theoretical part explains the principle of various lithographic techniques and methods of deposition of target material. The practical part includes the preparation of polymer masks by electron beam lithography on silicon substrate and polyimide film. Based on layer thickness measurements using a mechanical profilometer, solutions prepared from PMMA of higher and lower molar mass were selected for polymer mask preparation. Using the masks, conductive Ag structures were prepared on the silicon substrate by a lift-off process. Characterization of the structures was performed by optical microscopy, mechanical profilometry and scanning electron microscopy. The comparison of the size of the structures was the main focus of the characterisation.
dc.description.department	Ústav fyziky a mater. inženýrství
dc.thesis.degree-discipline	Materiálové inženýrství	cs
dc.thesis.degree-discipline	Material Engineering	en
dc.thesis.degree-grantor	Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně. Fakulta technologická	cs
dc.thesis.degree-grantor	Tomas Bata University in Zlín. Faculty of Technology	en
dc.thesis.degree-name	Bc.
dc.thesis.degree-program	Materiály a technologie	cs
dc.thesis.degree-program	Materials and Technologies	en
dc.identifier.stag	67992
dc.date.submitted	2024-05-17